在這里，我們向大家介紹一些與眾不同且高水準(zhǔn)的光引發(fā)劑，正是因?yàn)槠洫?dú)特性，它們的價(jià)格也相應(yīng)較為昂貴。但絕對(duì)值！
01、陽(yáng)離子型光引發(fā)劑
它是在吸收光能后到激發(fā)態(tài)，分子發(fā)生光解反應(yīng)，產(chǎn)生超強(qiáng)酸即超強(qiáng)質(zhì)子酸，從而引發(fā)陽(yáng)離子低聚物和活性稀釋即進(jìn)行陽(yáng)離子聚合。
這類使用陽(yáng)離子引發(fā)劑的低聚物和活性稀釋劑主要有：環(huán)氧化合物和乙烯基醚，還有內(nèi)酯、縮醛、環(huán)醚等。
陽(yáng)離子引發(fā)劑和自由基引發(fā)劑的比較
陽(yáng)離子光固化的活性中間體超強(qiáng)酸在化學(xué)上是穩(wěn)定的，因帶正電荷不會(huì)發(fā)生偶合而消失，在鏈終止時(shí)也會(huì)產(chǎn)生新的超強(qiáng)酸，因此光照停止后，仍能繼續(xù)引發(fā)聚合交聯(lián)，進(jìn)行后固化，壽命長(zhǎng)，適合于厚涂層和有色涂層的光固化。
02、大分子引發(fā)劑
主要針對(duì)小分子引發(fā)劑的以下問(wèn)題：
（1） 相容性——
溶解性差，需要加熱。低溫放置可能會(huì)析出。有可能在溶劑揮發(fā)時(shí)引起溫度變化而溢出，造成顆粒。
（2） 遷移性——
（3） 氣味——
目前商業(yè)化的大分子光引發(fā)劑分為Esacure KIP150 以及KIP150為主的KIP系列和KT系列。
KIP150是橙黃色粘稠物，分子量2000左右。實(shí)際上可看作將1173連接再甲基乙烯基上組成的低聚物，屬于a－羥基酮累引發(fā)劑，最大吸收波長(zhǎng)在245nm和325nm。在低聚物和活性稀釋劑中溶解性較好。
KIP150是一個(gè)不遷移、低氣味和耐黃變的光引發(fā)劑，雖然其光引發(fā)效率只有1173的1/4，但KIP150在光照后，可在大分子上同時(shí)形成多個(gè)自由基，局部自由基濃度可以很高，能有效克服氧阻聚，提高光聚合速度，在使用時(shí)有較好的光引發(fā)作用。
多個(gè)組成物
除KIP/KB是粘稠物外都是液體。
03、水基光引發(fā)劑
水性光固化涂料是由水性低聚物和水性光引發(fā)劑組成。用水來(lái)代替活性單體。
不少水性光引發(fā)劑是在原來(lái)油溶性光引發(fā)劑結(jié)構(gòu)中引入陰離子、陽(yáng)離子或親水性的非離子基，使其變成水溶性。
已經(jīng)商品化的水性光引發(fā)劑有KIPEM、819DW和QTX等。Omnirad 2959由于在1173苯環(huán)對(duì)位引入了羥基－2－氧基（HOCH2CH2-），使在水中的溶解度從0.1％提高到1.7％，也可以用在水性光固化中。
04、可見(jiàn)光引發(fā)劑
已經(jīng)商品化的有樟腦醌和鈦茂可見(jiàn)光引發(fā)劑。
1、 樟腦醌
樟腦醌（CQ）最大吸收波長(zhǎng)470nm。在吸收光能后，與助引發(fā)劑叔胺作用，奪氫后產(chǎn)生自由基。（自由基型的引發(fā)劑）。
優(yōu)點(diǎn)：樟腦醌由于對(duì)人體無(wú)害，生物相容性好，光解反應(yīng)后其長(zhǎng)波吸光性能消失，具有光漂白作用，非常適合在光固化牙科材料上應(yīng)用。
2、 鈦茂
氟代二苯基鈦茂具有良好的光活性、熱穩(wěn)定性和較低的毒性，可作為光引發(fā)劑使用，并商品化。
雙[2，6－二氟－3－（1H－吡咯基－1）苯基]鈦茂，商品名Irgacure 784，簡(jiǎn)稱 784。橙色粉末，熔點(diǎn)160－170。
最大吸收波長(zhǎng)398nm、470nm，最大吸收波長(zhǎng)可達(dá)560nm。784和氬離子激光器488nm發(fā)射波長(zhǎng)匹配。氟代二苯基鈦茂784光引發(fā)劑的光引發(fā)過(guò)程既不屬于裂解型，也不屬于奪氫型。
784可見(jiàn)光吸收良好，光解后有漂白作用，非常適合作厚涂層的可見(jiàn)光固化，可固化70um以上的厚涂層。
熱分解為230度，和乙酸或氫化鈉溶液中煮沸幾個(gè)小時(shí)不發(fā)生變化，有極好的熱穩(wěn)定性。784的感光靈敏度和光引發(fā)活性很高，在丙烯酸酯體系中，只需0.8mJ/cm2的488nm光照就可以引發(fā)聚合；0.3％ 784光引發(fā)劑下率比2％651高出2～6倍。
缺點(diǎn)：在UV光區(qū)摩爾消光系數(shù)太大，光屏蔽作用強(qiáng)，只能用于薄涂層固化。
784主要用于高技術(shù)含量和高附加值領(lǐng)域，如氬離子激光掃描固化等。
